Magnetron Sputter Coater ( เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริง )

Magnetron Sputter Coater

( เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริง )

Magnetron Sputter Coating คือ กระบวนการที่ทำให้อะตอมของสารเคลือบ ( Coating Target ) หลุดออกมาโดยการป้อนก๊าซเฉื่อยที่อยู่ในสภาวะ พลาสมาให้ไหลเข้าไปชนกับผิวของสารเคลือบ และใช้สนามแม่เหล็กจากแมกนีตรอน ( Magnetron ) เข้ามาควบคุมความเร็วในการเคลื่อนที่ของก๊าซ จากการเพิ่มปริมาณของพลาสมาจะทำให้อัตรา

การสปัตเตอริงสูงขึ้น อะตอมของสารเคลือบจึงหลุดออกมาอย่างต่อเนื่องกลายเป็นไอของสารตั้งต้น และวิ่งเข้าไป

เคลือบลงบนผิวของวัสดุรองรับ ( Sample Target )

สาขาที่ใช้งาน 

Ø    อุตสาหกรรมโลหะ , อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ , อุตสาหกรรมเซรามิก , 

ห้องปฏิบัติการกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ( Scanning Electron Microscope / SEM ) เป็นต้น