Thin Film Metrology System ( เครื่องวัดความหนาชั้นเคลือบฟิล์มบางบนวัสดุ )
Thin Film Metrology System
( เครื่องวัดความหนาชั้นเคลือบฟิล์มบางบนวัสดุ )
vลักษณะทั่วไป
Ø ใช้วัดค่าความหนาชั้นฟิล์มบาง ( Optical Transparent Film ) ที่เคลือบบน Wafer-โลหะ-แก้ว เป็นต้น
Ø วัดค่าความหนาได้ตั้งแต่ 10 นาโนเมตร ถึง 50 ไมโครเมตร ด้วยความละเอียด 1 นาโนเมตร
Ø วัดค่าได้ในแบบต่อเนื่อง ( Real-time On-line ) จึงสามารถใช้ Monitor ค่าความหนาขณะเคลือบได้
Ø มีรุ่นสำหรับใช้วัดใน Vacuum Chambers เพื่อควบคุณภาพของการเคลือบในขณะผลิต
v ตัวอย่างการใช้งาน
Ø ใช้วัดค่าความหนาชั้นเคลือบฟิล์มบางบนชิ้นส่วนโลหะ , กระจก , เลนส์ , อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ , ผิวเซ็นเซอร์ ,
จอภาพ LCD-LED-Plasma , ฟิลเตอร์กรองแสง , แผ่น Wafer, แว่นตา เป็นต้น
vสาขาที่ใช้งาน
Ø ฟิสิกส์สารกึ่งตัวนำ ( Semiconductor ) , โซลาเซลล์ , จอภาพแสดงผล , กระจก , เลนส์ เป็นต้น
-
Model ULS2048CL-EVO
เครื่องวัดความหนาฟิล์มบางของวัสดุ
Detector: CMOS
Spectral Range: 200 - 1000 nm
Resolution: 4.6 nm FWHM
Coating Thickness: 10 nm to 50 um
Thickness Resolution: 1 nm -
Model ULS2048CL-EVO-RS
เครื่องวัดความหนาฟิล์มบางของวัสดุ
Detector: CMOS
Spectral Range: 200 - 1000 nm
Resolution: 1.4 - 9.2 nm FWHM
Coating Thickness: 10 nm - 50 um
Thickness Resolution: 1 nm -
Model ULS2048CL-EVO-RS
เครื่องวัดความหนาฟิล์มบางของวัสดุ 5 ชั้น
Detector: CMOS
Spectral Range: 200 - 1000 nm
Resolution: 1.4 - 9.2 nm FWHM
Coating Thickness: 10 nm - 50 um
Thickness Resolution: 1 nm
Demo Unit / Special Price !!! สำหรับ 5 Layers Thin Film Metrology System
ดาวน์โหลดเอกสารเพิ่มเติม
1. Avantes ( Thin film diagnostics by UV spectroscopic reflectometry ) : ตัวอย่างการใช้งานเพื่อหาคุณสมบัติด้านต่างๆของฟิล์มบาง ด้วยเทคนิคการสะท้อนแสง
2. Avantes ( Spectro ellipsometer innovation using AVantes ... ) : ตัวอย่างการใช้งานเพื่อหาความหนาของฟิล์มบางและโครงสร้างพื้นผิวแบบ 3 มิติ ในระดับนาโนเมตร
.png){kind=small}
