Thin Film Metrology System ( เครื่องวัดความหนาชั้นเคลือบฟิล์มบางบนวัสดุ )

 

 

Thin Film Metrology System

( เครื่องวัดความหนาชั้นเคลือบฟิล์มบางบนวัสดุ )

 

vลักษณะทั่วไป

Ø  ใช้วัดค่าความหนาชั้นฟิล์มบาง ( Optical Transparent Film ) ที่เคลือบบน Wafer-โลหะ-แก้ว เป็นต้น

Ø  วัดค่าความหนาได้ตั้งแต่ 10 นาโนเมตร ถึง 50 ไมโครเมตร ด้วยความละเอียด 1 นาโนเมตร

Ø  วัดค่าได้ในแบบต่อเนื่อง ( Real-time On-line ) จึงสามารถใช้ Monitor ค่าความหนาขณะเคลือบได้

Ø  มีรุ่นสำหรับใช้วัดใน Vacuum Chambers เพื่อควบคุณภาพของการเคลือบในขณะผลิต

 

v  ตัวอย่างการใช้งาน

Ø  ใช้วัดค่าความหนาชั้นเคลือบฟิล์มบางบนชิ้นส่วนโลหะ , กระจก , เลนส์ , อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ , ผิวเซ็นเซอร์

   จอภาพ LCD-LED-Plasma , ฟิลเตอร์กรองแสง , แผ่น Wafer, แว่นตา เป็นต้น

 

vสาขาที่ใช้งาน

              Ø  ฟิสิกส์สารกึ่งตัวนำ ( Semiconductor ) , โซลาเซลล์ , จอภาพแสดงผล , กระจก , เลนส์ เป็นต้น 


  • Model ULS2048CL-EVO
    เครื่องวัดความหนาฟิล์มบางของวัสดุ
    Detector: CMOS
    Spectral Range: 200 - 1000 nm
    Resolution: 4.6 nm FWHM
    Coating Thickness: 10 nm to 50 um
    Thickness Resolution: 1 nm

  • Model ULS2048CL-EVO-RS
    เครื่องวัดความหนาฟิล์มบางของวัสดุ
    Detector: CMOS
    Spectral Range: 200 - 1000 nm
    Resolution: 1.4 - 9.2 nm FWHM
    Coating Thickness: 10 nm - 50 um
    Thickness Resolution: 1 nm

  • Model ULS2048CL-EVO-RS
    เครื่องวัดความหนาฟิล์มบางของวัสดุ 5 ชั้น
    Detector: CMOS
    Spectral Range: 200 - 1000 nm
    Resolution: 1.4 - 9.2 nm FWHM
    Coating Thickness: 10 nm - 50 um
    Thickness Resolution: 1 nm

Demo Unit / Special Price !!! สำหรับ 5 Layers Thin Film Metrology System

ดาวน์โหลดเอกสารเพิ่มเติม

 

1. Avantes ( Thin film diagnostics by UV spectroscopic reflectometry ) :  ตัวอย่างการใช้งานเพื่อหาคุณสมบัติด้านต่างๆของฟิล์มบาง ด้วยเทคนิคการสะท้อนแสง

2. Avantes ( Spectro ellipsometer innovation using AVantes ... ) :  ตัวอย่างการใช้งานเพื่อหาความหนาของฟิล์มบางและโครงสร้างพื้นผิวแบบ 3 มิติ ในระดับนาโนเมตร

Visitors: 114,549