OES & Plasma Monitoring ( เครื่องวิเคราะห์ ธาตุ-ไอออน-โมเลกุล ในกระบวนการพลาสมา )

OES & Plasma Monitoring

( เครื่องวิเคราะห์ ธาตุ-ไอออน-โมเลกุล ในกระบวนการพลาสมา )

v  ลักษณะทั่วไป

Ø  ใช้วัดสเปกตรัมแสงและรังสีจากกระบวนการพลาสมาในช่วงความยาวคลื่น UV-VIS

Ø  ใช้วัดสเปกตรัมจากแหล่งกำเนิดแสงและรังสีพลาสมา ( Plasma Sources ) ได้ทุกชนิด 

Ø  ใช้วิเคราะห์หาชนิดองค์ประกอบทางเคมีของธาตุ เช่น โมเลกุล , โมเลกุลพิเศษ , ไอออน , อะตอม

Ø  วัดและบันทึกค่าได้แบบ Real-time On-line เพื่อใช้ Monitor การเปลี่ยนแปลงของปฏิกิริยา

Ø  บันทึกข้อมูลการวัดเข้าสู่ MS-Excel ให้โดยอัตโนมัติ

Ø  สามารถแสดงผลสเปกตรัมได้ในแบบ 3D เพื่อวิเคราะห์หาการเปลี่ยนแปลงของปฏิกิริยา

 v  ตัวอย่างการใช้งาน

Ø  ใช้วิเคราะห์หาชนิดของโมเลกุลและโมเลกุลพิเศษในกระบวนการเกิดปฏิกิริยาเคมี เช่น โมเลกุลของอนุมูลอิสระ ( Free Radicals )

Ø  ใช้สังเกตุการเกิด Ionization ของธาตุในกระบวนการต่างๆ

Ø  ใช้สังเกตุและตรวจวัดพลาสมาในกรรมวิธีพื้นผิว เช่น Nitrogenation ของโลหะ , การทำ Etching ของสารกึ่งตัวนำ , 

   การทำ Thin Film Coating ที่ผิวหน้าพลาสติกหรือโลหะ เป็นต้น

Ø  ใช้ทดสอบเครื่องพลาสมาเย็นสำหรับการรักษาทางการแพทย์ เช่น การฆ่าเชื้อที่เป็นสาเหตุของสิว การรักษาแผลเรื้อรังหรือแผลผ่าตัด 

   รวมถึงการใช้ในด้านความงาม เช่น การทำให้ผิวหน้ากระจ่างใส ทำตาสองชั้น แก้ปัญหาหนังตาตก โดยใช้พลาสมาเย็นแทนการผ่าตัดหรือเลเซอร์

Ø  ใช้ตรวจสอบและวิเคราะห์การใช้พลาสมาในด้านการตัดแต่งพันธุกรรมพืชและสัตว์  

v  สาขาที่ใช้งาน            

          Ø ฟิสิกส์ , เคมี , ชีววิทยา , วัสดุศาสตร์ , เทคโนโลยีชีวภาพ , การแพทย์ , คลินิกเสริมความงามและโรงพยาบาล , การเกษตร , 

   อุตสาหกรรมการเคลือบผิวแบบ PVD และ CVD , อุตสาหกรรมฮาร์ดดิสก์และไมโครชิพ , การผลิตหลอดไฟ เป็นต้น