Magnetron Sputter Coater ( เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริง )

 

Magnetron Sputter Coater

( เครื่องเคลือบฟิล์มบางด้วยระบบแมกนีตรอนสปัตเตอริง )

 

Magnetron Sputter Coating คือ กระบวนการที่ทำให้อะตอมของสารเคลือบ ( Coating Target ) หลุดออกมาโดยการป้อนก๊าซเฉื่อยที่อยู่ในสภาวะ พลาสมาให้ไหลเข้าไปชนกับผิวของสารเคลือบ และใช้สนามแม่เหล็กจากแมกนีตรอน ( Magnetron ) เข้ามาควบคุมความเร็วในการเคลื่อนที่ของก๊าซ จากการเพิ่มปริมาณของพลาสมาจะทำให้อัตรา

การสปัตเตอริงสูงขึ้น อะตอมของสารเคลือบจึงหลุดออกมาอย่างต่อเนื่องกลายเป็นไอของสารตั้งต้น และวิ่งเข้าไป

เคลือบลงบนผิวของวัสดุรองรับ ( Sample Target )

 

สาขาที่ใช้งาน 

Ø    อุตสาหกรรมโลหะ อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ อุตสาหกรรมเซรามิก , 

ห้องปฏิบัติการกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด Scanning Electron Microscope / SEM ) เป็นต้น


                                          

Visitors: 117,294