Spin Coater ( เครื่องเคลือบผิววัสดุแบบหมุนเหวี่ยง )
Spin Coater
( เครื่องเคลือบผิววัสดุแบบหมุนเหวี่ยง )
Spin Coater คือ เครื่องเคลือบผิววัสดุด้วยด้วยสารเคลือบหรือสารไวแสงที่เป็นของเหลวโดยอาศัยแรงเหวี่ยงหนีศูนย์กลาง เมื่อทำการหยดสาร
ที่จุดศูนย์กลางของวัสดุรองรับหรือชิ้นงาน ( Substrate ) แล้วเหวี่ยงด้วยความเร็วสูง สารเคลือบจะกระจายตัวเกิดเป็นชั้นฟิล์มเคลือบบนผิวหน้า
ของวัสดุ ซึ่งความหนาของชั้นฟิล์มจะขึ้นอยู่กับปัจจัยต่างๆ เช่น
· ความหนืดของสารเคลือบ ( Viscosity )
· ปริมาณสารเคลือบ
· ความเร็วในการหมุน
· เวลาในการหมุน
สาขาที่ใช้งาน
Ø เซลล์แสงอาทิตย์, อุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์ และห้องปฏิบัติการ เป็นต้น
-
CY-EZ4
- Wafers ขนาดไม่เกิน 4 นิ้ว
- Speed : 100-10000 rpm -
CY-GKF411
- 100 grade purifying effect
- Speed : 0-8000 rpm -
CY-IC5000
- Temperature Range : Rm~150℃
- Speed : 100-5000 rpm -
CY-AC100
- Sample Range : 10-200 mm
- Speed : 100-12000 rpm
-
CY-EZ6
- Sample Range : 10-150 mm
- Speed : 1000-12000 rpm -
Cy-Sp4
- Chuck Diameter : 5 inches
- Speed : Max 10,000 rpm -
CY-VTC-200P
- Chamber : Anti-Corrosive
- Speed : 500-8,000 rpm -
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Semiconductor, Wafer
- Conductive Glass, Plate Making
- Speed : 500-8000 rpm
-
เหมาะสำหรับใช้กับวัสดุเคลือบ เช่น
- Liquid Materials , Gels , Flowable Pastes
- Speed : 500-8000 rpm -
เหมาะสำหรับใช้กับวัสดุเคลือบ เช่น
- Liquid Materials , Gels , Flowable Pastes
- Speed : 500-10,000 rpm -
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Wafers , Glass , Ceramics , Metal
- Speed : 500-8000 rpm -
ระบบ Vacuum Heating ทำความดันได้ -0.06 Mpa
ใช้สำหรับเคลือบบน
- Silicon Wafer , Crystal , Quartz , Ceramic
- Speed : 0-10000 rpm
-
เหมาะสำหรับ High-End Lab และ Industrial
- Speed : Up to 12000 rpm -
เหมาะสำหรับใช้กับวัสดุเคลือบ เช่น
- Liquid Materials , Gels , Flowable Pastes
- Speed : 100-9999 rpm ( Adjustable ) -
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Semiconductor , Crystal
- Optical Disc และ Plate Making
- Speed : 100-9999 rpm -
CY-SPC8-H
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Semiconductor , Crystal
- Quartz , Ceramics
- Speed : 0-10000 rpm
- Heating Temperature : ≤ 200 ℃
-
CY-SP4
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Semiconductor , Crystal
- Quartz , Ceramics
- Speed : 100-5000 rpm
- Substrate Size : ≤ 4 inches ( 100 mm ) -
- Speed : 0-3000 rpm
- Heating Temperature : ≤ 200 ℃
- Substrate Size : ≤ 4 inches ( 100 mm ) -
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Semiconductor , Crystal
- Quartz , Ceramics
- Speed : 100-5000 rpm
- Substrate Size : ≤ 8 inches ( 200 mm ) -
ใช้สำหรับเคลือบฟิล์มบนพื้นผิววัสดุต่างๆ เช่น
- Silicon Wafers , Crystal
- Quartz , Ceramics
- Speed : 0-10000 rpm
- Substrate Size : ≤ 8 inches ( 200 mm )
-
เหมาะสำหรับใช้กับวัสดุเคลือบ เช่น
- Liquid Materials , Gels , Flowable Pastes
ประกอบด้วย
- 12" Spin Coater / Compressed Air
- Heatable Syringe Pump / Heat Lamp -
CY-SPC-HUA6
- Sample Size : 6 inches
- Speed : 10000 rpm
-
สำหรับห้องปฏิบัติการในมหาวิทยาลัยและสถาบันวิจัย
- ตู้มีการทนต่อการกัดกร่อน
- สามารถจ่ายสารเคลือบอัตโนมัติ 0.006-990 ml/min
- เก็บโปรแกรมได้มากถึง 100 โปรแกรม
- Speed : 0-5,000 rpm -
CY-SPC12-HP
- สามารถรองรับตัวอย่างได้ 300 mm
- Speed : ≤ 3000 rpm
- Control Mode : 15 inch full HD touch screen
.png){kind=small}
